超純水是半導體及LCD製程中不可或缺的原料,用於清洗晶圓、光罩、設備等。
本工程為半導體製程用水,原水TDS<200ppm,回收率75%,要求生產線上水質保持在2~3MΩ,規劃上採雲端即時監控系統,可隨時了解生產中的水系統運作狀況,並能有效掌握生產線製程品質。
系統設計概況
- 應用領域:半導體、光電及 LCD 製程用水(晶圓/光罩清洗)。
- 系統產能:產水量 10 ~ 12 m3/hr (CMH)。
- 原水條件與回收率:原水TDS < 200 ppm,RO系統水回收率達 70% ~ 75%。
- 水質目標:供水比阻抗維護於 2 ~ 3.5 MΩ .cm,並針對 TOC 微量有機碳與微生物進行深度精處理。
系統特色
系統資訊數位化online控制,讓管理者隨時隨地透過手機掌握系統狀況
因應客戶半導體產業特色,要求水質控制在2-3.5MΩ之間
系統如果有異常,發送email至管理者反應,處理快速
全系統接續交替,泵浦變頻運轉,安全、省電,故障時交替系統不中斷,保障持續供水
雲端監控-超純水系統設備
1. 前處理過濾系統
主要負責去除原水中的懸浮微粒、餘氯及硬度,保護後端RO膜組,延長設備壽命。
- 原水泵 (一備一用):採不鏽鋼(SS304)材質,提供系統穩定之進水動力。
- 自動活性碳過濾器:配置全自動控制閥進行定期反洗;並配備線上餘氯偵測儀,即時監控水質,防止餘氯氧化破壞RO膜。
- 速霸抑垢器:有效抑制水中鈣鎂離子結垢;系統管路均採用 SS304 不鏽鋼材質,兼顧耐用性與潔淨度。
2. RO純水系統裝備
本系統為純水製造之核心,透過高壓反滲透技術去除水中絕大部分的溶解鹽類與雜質。
RO System主機:設計產水流量達 ,系統水回收率達 75%。
- 主機配置:
。前置過濾器: 於進入高壓泵前進行最終微粒攔截。
。RO高壓泵 (一備一用): 提供反滲透所需之足額操作壓力。
。膜組與外殼: 採用 8”x160”FRP高耐壓膜殼,內裝高去鹽率RO膜。 - 控制與監測儀表:
配備管路式流量計與線上數位電子流量計,精準掌握產水數據。
。配置電動閥進行自動切換與程序控制。
。配備 pH計 及 RO前後線上電導度計,即時調控並監測系統去鹽效。
4. 雲端即時監控系統功能介紹
雲端數位化監控優勢
- Modbus-RTU 串聯與遠端連線:現場全數 12 個核心水質與物理特性能量測點 透過 Modbus-RTU 通訊協議匯集至 Linux-based 雲端主機,管理者可透過手機或網頁遠端即時查看水質與流量數據。
- 零時差 Email 異常告警:當水質比阻抗過低、TOC 超標、餘氯異常或泵浦跳脫時,系統立即觸發 Email 警報推播,提升維護應變速度。
- 高可靠備援與節能:泵浦全數具備 VFD 變頻控制與全自動故障切換機制,在極致控制水質穩定度的同時,最大化省電效益並保障生產線持續供水。