電子業/電廠用超純水

半導體製造廠需要高純水（UPW）用於晶圓生產過程，高純水的電阻率要求達到18.2MΩ·cm，幾乎不含任何雜質。本案設計

半導體製造廠需要高純水（UPW）用於晶圓生產過程，高純水的電阻率要求達到18.2MΩ·cm，幾乎不含任何雜質。本案設計並安裝了一套12 CMH的超純水系統；該系統採用淨水處理工藝，包括預處理、反滲透（RO）和電去離子（EDI），確保產水水質達到10…

在電廠機組安裝或維修後進行試車與預試車階段時，需使用高純度除礦水（Demineralized Water, DM Water）以防止鍋爐與汽輪機產生結垢與腐蝕，確保設備運行穩定。本案導入貨櫃型除礦水系統，日處理量高達20立方米，具備快速部署、模組整合、高…