半導體製造廠需要高純水（UPW）用於晶圓生產過程，高純水的電阻率要求達到18.2MΩ·cm，幾乎不含任何雜質。本案設計並安裝了一套12 CMH的超純水系統；該系統採用淨水處理工藝，包括預處理、反滲透（RO）和電去離子（EDI），確保產水水質達到10 MΩ·cm以上的高純度標準。該超純水系統有效去除了水中的離子、有機物和微粒，保證了水質穩定性和生產工藝的可靠性。系統設計合理，運行穩定，滿足了客戶對高純水的嚴格要求，顯著提升了電子產品的生產品質和效率。
原水加壓馬達→全自動多層除濁過濾器→全自動活性碳過濾器→全自動軟化過濾器→軟水儲水塔→軟水加壓泵。功能 : 去除水中的懸浮物和有機物及鈣、鎂離子，防止結垢。
RO進水泵→5μm精密過濾器→RO高壓泵→RO逆滲透系統主機→RO水儲水槽。功能 : 去除水中的溶解鹽和有機物，產水電導率降至10 µS/cm以下。
EDI進水泵→1μm精密過濾器→EDI系統→UPW純水儲水槽→UPW送水泵→核子級精煉塔→TOC紫外線殺菌器→半導體精煉塔→UV紫外線殺菌器→0.2μm精密過濾器功能 : 結合電滲析和離子交換技術，進一步去除水中的離子，使水質達到電阻率10 MΩ·cm以上的超純水標準，並通過紫外線照射，殺滅水中的微生物，防止生物污染。
全系統採PLC控制，馬達機組附跳脫保護及斷水警報裝置，使用上安全無虞。．自動定時沖洗裝置 ．缺水低壓保護．操作壓力設定控制 ．儲存RO滿水位停機．具回流調整裝置,調整泵浦出水．控制箱內外雙門配置含透明觀看窗。
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